Kemijska analiza površina (ESCA)

U uvjetima ultravisokog vakuuma moguće je analizirati kemijski sastav površinskih slojeva uzorka tehnikama Augereove elektronske spektroskopije (AES) i elektronske spektroskopije rendgenskim zrakama (XPS).

Instrument se može koristiti za rutinsku analizu mjerenja u okviru bazičnih i primjenjenih istraživanja (popis radova).

Tehničke karakteristike instrumenta

Analiza uzoraka "as received" i mogućnost čišćenja površine snopom iona argona (Argon sputtering).



XPS - Izvor: nemonokromatizirani izvor Al- Ka(1486.6 eV) i Mg- Ka(1253.6 eV), površina uzorkovanja - 1 cm2
AES - Izvor: elektronski izvor, energja elektrona 100 eV - 5 keV, površina uzorkovanja 2 mm2
ANALIZATOR - Hemisferalni, energijska razlučivost 150 meV

Uvjeti korištenja

Analize u dogovoru sa suradnicima laboratorija

STATUS INSTRUMENTA: remont, očekivani datum početka rada - travanj 2009.

KONTAKT: M. Milun, P. Pervan